如果你也在 怎样代写三维成像Three-Dimensional Imaging ARTD3005这个学科遇到相关的难题，请随时右上角联系我们的24/7代写客服。三维成像Three-Dimensional Imaging像是一种将许多扫描（来自计算机断层扫描、核磁共振或超声扫描）通过计算结合起来的技术。然后，这些图像可以由放射科医师或医生进行操作，以帮助诊断和手术计划。
三维成像Three-Dimensional Imaging是一种革命性的光学成像技术，它通过利用三维成像模式提供身体内部的放大图像进行医学分析。三维成像技术包括超声、磁共振成像（MRI）、放射成像和计算机断层扫描（CT）。成像是正畸医生评估和记录颅面结构的大小和形态的最重要工具之一。正畸医生通常使用二维（2D）静态成像技术，但二维成像无法获得和定位结构的深度。三维（3D）成像技术在20世纪90年代初得到发展，并在口腔医学，特别是正畸学中获得了宝贵的地位。本文献综述的目的是总结三维成像技术的现状，并评估其在正畸领域的应用。
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电子工程代写|三维成像代写Three-Dimensional Imaging代考|Self-Stabilized Holographic Recording in Photoresist Films
Photoresist films are materials widely employed in microelectronic processes. After exposure in an appropriate light pattern, the photoresist is developed in a wet solution to convert the light pattern into a relief mask for the etching of the substrate [10]. Photoresist is used in holography to record relief holograms for embossing and replication [11] or as masks for lithography of holographic optical elements.
Residual real-time refractive index modulation has been observed in both negative and positive photoresist $[6,12]$. Diffraction efficiencies of about $10^{-4}$ can be measured, even without development, in positive photoresist films of $1 \mu \mathrm{m}$ thickness exposed at the line $\lambda=458 \mathrm{~nm}$ of an Ar laser [13]. Although this index modulation could be very low at the beginning of exposure, the stabilization system is so sensitive that it can be used as a reference hologram to stabilize the entire holographic exposition of the photoresist.
In photoresist films, real-time modulation in the refractive index generates a phase hologram [13]. Thus, as discussed in Section 3.2.2, $\varphi \equiv \psi+\frac{1}{2} \pi$, and to keep $\psi=0, \varphi$ must be fixed at $\frac{1}{2} \pi$. In this case, the second-harmonic signal $V_{2 \Omega}$ must be used to feed back the piezoelectric-supported mirror for self-stabilization of the holographic exposure, imposing $\cos (\varphi) \cong 0$. Then, the first-harmonic signal will be given by
$$
V_{\Omega}=K_p 4 J_1\left(\varphi_d\right) \sqrt{I_1 I_2}\left(\sqrt{\eta_1}\right.
$$
The diffraction efficiency $\eta_1$ depends on the refractive index modulation of the photoresist grating that is forming and thus will increase during the exposure. So the signal $V_{\Omega}$ should increase continuously during the exposure and could be used to monitor the exposure. Figure $3.6$ shows this procedure in a flow chart.
电子工程代写|三维成像代写Three-Dimensional Imaging代考|Self-Stabilized Photoelectrochemical Etching of $n-\ln P(100)$ Substrates
Photoelectrochemical (PEC) etching is an interesting technique to direct engraving a light pattern in semiconductors [16]. In PEC etching, the photogenerated minority carriers in a semiconductor are drawn by the reverse applied potential to the semiconductor-eletrolyte interface, where they catalyze the anodic dissolution of the semiconductor. Thus the regions of the semiconductor surface that were illuminated will be etched, converting a light pattern into a relief pattern engraved in the semiconductor surface.
The major problem that limits the application of this technique to holographic recordings is the low contrast of the interference pattern due to vibrations and thermal and concentration gradients, because the holographic pattern must be projected inside a liquid cell (electrolyte). Figure $3.10$ shows the PEC etching of a holographic grating in $n$-In $\mathrm{P}$ semiconductor substrate.
三维成像代写
电子工程代写|三维成像代写三维成像代考|自稳定全息记录在光刻胶薄膜
光刻胶薄膜是广泛应用于微电子工艺的材料。在适当的光模式下曝光后，在湿溶液中显影光刻胶，将光模式转换为蚀刻衬底[10]的浮雕掩模。光刻胶在全息照相中用于记录浮雕全息图，用于压印和复制，或用作全息光学元件的光刻掩模
在负极和正极光刻胶$[6,12]$中都观察到残留实时折射率调制。即使不显影，在Ar激光器[13]的$\lambda=458 \mathrm{~nm}$线上曝光的$1 \mu \mathrm{m}$厚度的正极光刻胶薄膜的衍射效率约为$10^{-4}$。虽然在曝光开始时，这种指数调制可能非常低，但稳定系统非常敏感，它可以作为参考全息图来稳定光刻胶的整个全息显示
在光刻胶薄膜中，实时调制折射率产生相位全息图[13]。因此，如3.2.2节所述， $\varphi \equiv \psi+\frac{1}{2} \pi$，并保持 $\psi=0, \varphi$ 必须固定在 $\frac{1}{2} \pi$。在这种情况下，是二次谐波信号 $V_{2 \Omega}$ 必须用压电支撑镜反馈全息曝光的自稳定，强制吗 $\cos (\varphi) \cong 0$。则一阶谐波信号由
给出$$
V_{\Omega}=K_p 4 J_1\left(\varphi_d\right) \sqrt{I_1 I_2}\left(\sqrt{\eta_1}\right.
$$
衍射效率 $\eta_1$ 取决于正在形成的光刻胶光栅的折射率调制，因此在曝光过程中会增加。所以这个信号 $V_{\Omega}$ 在暴露过程中应持续增加，可用于监测暴露。数字 $3.6$
电子工程代写|三维成像代写三维成像代考| $n-\ln P(100)$衬底自稳定光电电化学刻蚀
光电电化学(PEC)刻蚀是直接刻蚀半导体光图案的一种有趣的技术。在PEC蚀刻中，半导体中的光生少数载流子被反向施加的电势吸引到半导体-电解质界面，在那里它们催化半导体的阳极溶解。因此，半导体表面被照亮的区域将被蚀刻，将光图案转换为刻在半导体表面的浮雕图案
限制这项技术应用于全息记录的主要问题是由于振动、热和浓度梯度造成的干涉图样的低对比度，因为全息图样必须投射在液体电池(电解质)内。图$3.10$显示了在$n$ -In $\mathrm{P}$半导体衬底上全息光栅的PEC蚀刻
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微观经济学代写
微观经济学是主流经济学的一个分支，研究个人和企业在做出有关稀缺资源分配的决策时的行为以及这些个人和企业之间的相互作用。my-assignmentexpert™ 为您的留学生涯保驾护航 在数学Mathematics作业代写方面已经树立了自己的口碑, 保证靠谱, 高质且原创的数学Mathematics代写服务。我们的专家在图论代写Graph Theory代写方面经验极为丰富，各种图论代写Graph Theory相关的作业也就用不着 说。
线性代数代写
线性代数是数学的一个分支，涉及线性方程，如：线性图，如：以及它们在向量空间和通过矩阵的表示。线性代数是几乎所有数学领域的核心。
博弈论代写
现代博弈论始于约翰-冯-诺伊曼（John von Neumann）提出的两人零和博弈中的混合策略均衡的观点及其证明。冯-诺依曼的原始证明使用了关于连续映射到紧凑凸集的布劳威尔定点定理，这成为博弈论和数学经济学的标准方法。在他的论文之后，1944年，他与奥斯卡-莫根斯特恩（Oskar Morgenstern）共同撰写了《游戏和经济行为理论》一书，该书考虑了几个参与者的合作游戏。这本书的第二版提供了预期效用的公理理论，使数理统计学家和经济学家能够处理不确定性下的决策。
微积分代写
微积分，最初被称为无穷小微积分或 “无穷小的微积分”，是对连续变化的数学研究，就像几何学是对形状的研究，而代数是对算术运算的概括研究一样。
它有两个主要分支，微分和积分；微分涉及瞬时变化率和曲线的斜率，而积分涉及数量的累积，以及曲线下或曲线之间的面积。这两个分支通过微积分的基本定理相互联系，它们利用了无限序列和无限级数收敛到一个明确定义的极限的基本概念 。
计量经济学代写
什么是计量经济学？
计量经济学是统计学和数学模型的定量应用，使用数据来发展理论或测试经济学中的现有假设，并根据历史数据预测未来趋势。它对现实世界的数据进行统计试验，然后将结果与被测试的理论进行比较和对比。
根据你是对测试现有理论感兴趣，还是对利用现有数据在这些观察的基础上提出新的假设感兴趣，计量经济学可以细分为两大类：理论和应用。那些经常从事这种实践的人通常被称为计量经济学家。
MATLAB代写
MATLAB 是一种用于技术计算的高性能语言。它将计算、可视化和编程集成在一个易于使用的环境中，其中问题和解决方案以熟悉的数学符号表示。典型用途包括：数学和计算算法开发建模、仿真和原型制作数据分析、探索和可视化科学和工程图形应用程序开发，包括图形用户界面构建MATLAB 是一个交互式系统，其基本数据元素是一个不需要维度的数组。这使您可以解决许多技术计算问题，尤其是那些具有矩阵和向量公式的问题，而只需用 C 或 Fortran 等标量非交互式语言编写程序所需的时间的一小部分。MATLAB 名称代表矩阵实验室。MATLAB 最初的编写目的是提供对由 LINPACK 和 EISPACK 项目开发的矩阵软件的轻松访问，这两个项目共同代表了矩阵计算软件的最新技术。MATLAB 经过多年的发展，得到了许多用户的投入。在大学环境中，它是数学、工程和科学入门和高级课程的标准教学工具。在工业领域，MATLAB 是高效研究、开发和分析的首选工具。MATLAB 具有一系列称为工具箱的特定于应用程序的解决方案。对于大多数 MATLAB 用户来说非常重要，工具箱允许您学习和应用专业技术。工具箱是 MATLAB 函数（M 文件）的综合集合，可扩展 MATLAB 环境以解决特定类别的问题。可用工具箱的领域包括信号处理、控制系统、神经网络、模糊逻辑、小波、仿真等。